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氧化還原電位對厭氧的影響

標簽:工業污水處理

厭氧處理工藝是漓源環保在工業污水處理工程經常使用的工藝之一。厭氧處理工藝需要隔斷發酵系統與空氣中氧的接觸,使發酵液中盡可能地沒有溶解氧存在。厭氧環境是厭氧消化過程賴以正常進行的重要的條件,在實際運行當中,系統與空氣的完全隔段能夠保證發酵具有良好的厭氧環境。

厭氧環境的主要標志是發酵液具有較低的氧化還原電位。某種化學物質的氧化還原電位是該物質由其還原態向其氧化態流動的電位差,而一個體系的氧化還原電位是由該體系中所能形成氧化還原電位的化學物質的存在狀態決定的。體系中的氧化態物質占比例越高,其氧化化還原電位越高,形成的環境就越不適于厭氧微生物的生長,因為所形成的環境是好氧環境,反之同理。

發酵系統氧化還原電位升高的原因不僅有有氧進入系統的關系,還有一些氧化劑或氧化態物質存在的關系,如一些工業廢水中的鐵離子、酸性廢液中的氫離子等,當這些物質的濃度達到一定程度的時候,同樣會危害厭氧消化過程的進行,因此,體系中的氧化還原電位更能夠全面的反應發酵液所處的厭氧狀態。

在厭氧消化處理系統中,產甲烷菌對氧和氧化還原劑非常的敏感,原因是它不像好氧菌那樣具有過氧化氫酶,對厭氧反應器內介質中氧的濃度可以由氧化還原電位來表示達。相關研究表面,產甲烷菌初始繁殖時所需的環境條件為氧化還原電位不能高于-330mV。在厭氧消化過程中,不產甲烷階段可在兼性條件下完成,此時的氧化還原電位為+0.1~-0.1V;而在產甲烷階段,氧化還原電位必須控制在-0.3~-0.35與-0.56~-0.6V,產甲烷階段氧化還原電位的臨界值為-0.2V。

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化學合成類制藥廢水產生來源

化學合成類制藥廢水產生來源

化學合成制藥產生較嚴重污染的原因是合成工藝比較長、反應步驟多,形成產品化學結構的原料只占原料消耗的5%~15%,輔助性原料等卻占原料消耗的絕大部分,這些原料大部分轉化為“三廢”。因而“三廢”產生量大、廢物成分復雜、污染危害嚴重。化學合成制藥廢水主要來自批反應器的清洗水,清洗水中包括未反應的原材料、溶劑,以及伴隨大量隨化學反應(例如:硝化、氨化、鹵化、磺化、烴化反應)不同而異的化合物。

2018-06-17
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